Пластиковая металлизация вакуумного покрытия

Пластиковая металлизация вакуумного покрытия - это ключевое промышленное оборудование, которое использует передовую технологию вакуумного покрытия для равномерно нанесения металлической пленки на поверхности пластиковых изделий для улучшения своего внешнего вида, механических свойств и долговечности.
Ниже приведен технический принцип и рабочий процесс пластиковой металлизирующей вакуумной машины для вакуумного покрытия.
Вакуумная технология: ядро ​​пластической металлизирующей вакуумной машины для вакуумного покрытия - ее эффективная вакуумная система. В процессе покрытия оборудование сначала использует вакуумный насос для извлечения воздуха и примесей в студии для создания высокой вакуумной среды. Поддержание высокой степени вакуума имеет важное значение для обеспечения качества и стабильности пленки в процессе покрытия. Вакуумная система не только использует вакуумный насос, но также включает в себя мониторинг и контроль вакуумной камеры для обеспечения стабильности окружающей среды в процессе покрытия.
Технология вакуумного металлизации: в высокой вакуумной среде источник испарения металлов (такой как алюминий, хром, медь и другие металлы) нагревается до высокой температуры, что позволяет ему испаряться в пар, а затем откладывается на поверхности заготовки, чтобы сформировать металлическую пленку. Эта технология называется физическим осаждением паров (PVD). Благодаря высокоскоростной ионной бомбардировке атомы металла осаждаются на пластиковой поверхности, образуя равномерное и плотное металлическое пленку. Эта технология имеет преимущества высокой эффективности, защиты окружающей среды и отличного качества фильма. Он широко используется в модификации поверхности и функциональном улучшении различных пластиковых изделий.
Электронно -лучевая испарение и технология распыления магнетрона: пластиковая металлизационная вакуумная машина для вакуумного покрытия оснащена технологией испарения электронного луча и технологии распыления магнетрона. Технология испарения электронного луча нагревает источник металла через электронный луча, чтобы контролировать его точную скорость и положение испарения. Он подходит для процессов покрытия, которые требуют высокой чистоты и однородности. Магнитроновая технология использования магнитного поля для управления воздействием ионов и распылением на поверхности металлического целевого материала, который может реализовать отложение слоя композитной пленки и комбинированное применение нескольких металлических пленок, обеспечивая больше возможностей и возможностей настройки.