Какие факторы повлияют на производительность покрытия вакуумного покрытия?

Какие факторы повлияют на эффективность покрытия вакуумная машина для покрытия ?

Если вакуумный аппарат хочет покрыть хорошую пленку, она должна гарантировать, что многие факторы находятся в нормальном состоянии, такие как вакуумное покрытие, расстояние базовой цели, температура испарения, температура субстрата, остаточное давление газа и другие факторы. В определенном факторе есть отклонение. Это повлияет на производительность слоя покрытия вакуумного покрытия. Ниже приводится вакуумный редактор, который подробно объяснит, какие факторы повлияют на производительность покрытия вакуумной машины для покрытия. Я надеюсь, что это может вам помочь:

1. Скорость испарения

Размер скорости испарения оказывает большое влияние на депонированную пленку. Поскольку структура покрытия, образованная низкой скоростью осаждения, является свободной и легко откладывает большие частицы, чтобы обеспечить компактность структуры покрытия, очень безопасно выбрать более высокую скорость испарения. Когда давление остаточного газа в вакуумной камере постоянно, скорость бомбардировки бомбардировки подложки является постоянным значением. Следовательно, после выбора более высокой скорости осаждения остаточный газ, содержащийся в осажденной пленке, будет уменьшен, тем самым уменьшая химическую реакцию между остаточными молекулами газа и частицами испаренного пленку. Следовательно, чистота депонированной пленки может быть улучшена. Следует отметить, что если скорость осаждения слишком высока, это может увеличить внутреннее напряжение пленки, что приведет к увеличению дефектов в слое пленки и даже трещину слоя пленки в тяжелых случаях. В частности, в процессе реактивного испарения может быть выбрана более низкая скорость осаждения, чтобы позволить реакционному газу и частицам материала с испаренной пленкой достаточной реагирование. Конечно, различные скорости испарения должны использоваться для различного испарения материала. В качестве практического примера того, как низкая скорость осаждения может повлиять на производительность пленки, является отложение отражающей пленки. Например, когда толщина пленки составляет 600x10-8 см, а время испарения составляет 3S, отражательная способность составляет 93%. Однако, если скорость испарения замедляется под той же толщиной пленки, для завершения отложения пленки требуется 10 минут. В это время толщина пленки такая же. Тем не менее, отражательная способность упала до 68%.

2. Температура субстрата

Температура субстрата также оказывает большое влияние на испарительное покрытие. Молекулы остаточных газов, адсорбированные на поверхности субстрата при высоких температурах подложки, легко удаляются. В частности, исключение молекул водяного пара является более важным. Более того, не только легко способствовать переходу от физической адсорбции к химической адсорбции при более высокой температуре, тем самым увеличивая силу связывания между частицами. Более того, разница между температурой рекристаллизации молекул пара и температурой субстрата может быть снижена, тем самым уменьшая или устраняя внутреннее напряжение на границе раздела пленка. Кроме того, поскольку температура субстрата связана с кристаллическим состоянием пленки, аморфные или микрокристаллические покрытия, как правило, легко образуются в условиях низкого или отсутствия нагрева на подложке. И наоборот, когда температура выше, легко генерировать кристаллическое покрытие. Повышение температуры субстрата также полезно для улучшения механических свойств покрытия. Конечно, температура субстрата не должна быть слишком высокой, чтобы предотвратить перепарирование испаренного покрытия.

3. Влияние остаточного давления газа в вакуумной камере на производительность пленки

Давление остаточного газа в вакуумной камере оказывает большое влияние на характеристики мембраны. Если давление слишком высокое, остаточные молекулы газа не только легко столкнуться с испаренными частицами, так что кинетическая энергия людей, стреляющих в подложку, уменьшается, что влияет на адгезию пленки. Кроме того, чрезмерное остаточное давление газа серьезно повлияет на чистоту мембраны и снизит производительность покрытия.

4. Влияние температуры испарения на покрытие испарения

Влияние температуры испарения на производительность пленки показано скоростью испарения как функция температуры. Когда температура испарения высока, тепло испарения уменьшится. Если на пленочный материал испарится выше температуры испарения, даже небольшое изменение температуры может привести к быстрому изменению скорости испарения пленочного материала. Следовательно, очень важно точно контролировать температуру испарения во время осаждения пленки, чтобы избежать большого градиента температуры, когда источник испарения нагревается. Для материала пленки, который легко возвышен, сам материал фильма выбирается в качестве обогревателя, а такие меры, как испарение, также очень важны. Полем

Приведенные выше четыре аспекта являются общими факторами, влияющими на производительность слоя покрытия вакуумной машины для покрытия, а также являются обычными влиятельными факторами. Во время процесса покрытия вакуумного покрытия необходимо обеспечить, чтобы эти факторы находились в нормальном состоянии.