Улучшить стратегию:
Усилить обезжиривание и обеззараживание. Если это ультразвуковая очистка, следует сосредоточиться на функции обезжиривания и обеспечить эффективность обезжиривающего раствора; если его протирают вручную, подумайте о том, чтобы сначала протереть его порошком карбоната кальция, а затем протереть.
Усильте выпечку перед покрытием. Если позволяют условия, лучше, чтобы температура подложки могла достигать 300 ℃ или более, а постоянная температура должна быть более 20 минут, чтобы пары воды и масла на поверхности подложки испарялись как можно больше. *Примечание: Чем выше температура, тем выше адсорбционная способность подложки, а также легче адсорбировать пыль. Следовательно, чистота вакуумной камеры должна быть улучшена. В противном случае перед нанесением покрытия на подложку будет налипать пыль, что, помимо других дефектов, повлияет на прочность пленки. (Температура химической десорбции водяного пара на подложке в вакууме выше 260℃). Однако не все детали необходимо запекать при высокой температуре, а некоторые нитратные материалы имеют высокую температуру, но прочность пленки невелика, и могут появиться пятна. Это имеет большую связь с напряжением и тепловым соответствием материалов.
Когда позволяют условия, установка оснащается конденсатором (PLOYCOLD), который может не только увеличить скорость вакуумной откачки установки, но и помочь удалить водяной пар, масло и газ с поверхности.
Увеличьте вакуум степени испарения. Для машины для нанесения покрытий высотой более 1 метра начальный вакуум испарения должен быть выше 3*10-3Па. Чем больше машина для нанесения покрытий, тем выше начальный вакуум испарения.
Когда это возможно, устройство оснащается источником ионов, который подвергается бомбардировке перед нанесением покрытия, очищает поверхность подложки и способствует процессу покрытия, что способствует компактности и прочности пленки.
Чтобы удалить влагу из материала мембраны, поместите материал мембраны, который будет использоваться, в чашку Петри в вакуумной камере для сушки.
Следите за тем, чтобы рабочая среда была сухой (включая протирку линз, рабочее место под зонтом) и не допускайте попадания слишком большого количества водяного пара при уборке рабочей среды.
Для многослойных пленок при проектировании пленочной системы необходимо учитывать соответствие первой пленки и подложки и максимально использовать пленочный материал Al2O3, который обладает хорошей адсорбционной силой для большинства подложек. Для металлических пленок также можно рассматривать первый слой покрытия из хрома или сплава хрома. Cr или сплавы Cr также обладают лучшей адсорбционной способностью на подложке.
Используйте полировочную жидкость (жидкость для полировки) для восстановления и удаления корродированного слоя (гидролизованного слоя) на поверхности линзы.
Иногда правильное снижение скорости испарения помогает увеличить прочность пленки и положительно влияет на улучшение гладкости поверхности пленки.
Стресс фильма:
Процесс пленкообразования тонкой пленки представляет собой процесс преобразования материальной формы. После формирования пленки в слое пленки неизбежно возникнет напряжение. Для многослойных пленок существуют комбинации различных пленочных материалов, и напряжения, отражаемые каждым слоем пленки, различаются, некоторые из них представляют собой растягивающие напряжения, некоторые - сжимающие напряжения, а также существуют термические напряжения пленки и подложки.
Наличие напряжения отрицательно сказывается на прочности пленки. Более легкая означает, что пленка не выдерживает трения, а тяжелая вызывает появление трещин или тонких сеток в пленке.
Для просветляющих пленок напряжение обычно неочевидно из-за небольшого количества слоев. (Тем не менее, некоторые нитратные линзы имеют проблемы со стрессом, даже если они являются антиотражающими пленками.) Для пленок с высоким коэффициентом отражения и фильтрующих пленок с большим количеством слоев стресс является распространенным нежелательным фактором, на который следует обратить особое внимание.
Улучшить стратегию:
Выпекать после покрытия. После нанесения последнего слоя пленки не прекращайте выпечку сразу, а продолжайте «темперировать» в течение 10 минут. Сделайте структуру пленки более стабильной.
Время охлаждения соответствующим образом увеличивается, а отжиг стареет. Уменьшите тепловое напряжение, вызванное чрезмерной разницей температур внутри и снаружи вакуумной камеры.
Для пленок с высоким коэффициентом отражения, фильтрующих пленок и т. д. во время процесса испарения температура подложки не должна быть слишком высокой, так как высокие температуры могут вызвать термическое напряжение. И это отрицательно влияет на оптическую стабильность пленочных материалов, таких как оксид титана и оксид тантала.
Ион помогает в процессе покрытия, чтобы уменьшить стресс.
Выберите подходящую систему пленки, чтобы первый слой материала пленки и подложка соответствовали друг другу. (Например, в пятислойной антибликовой пленке используется Al2O3-ZrO2-Al2O3-Al2O3-ZrO2-MgF2; ZrO2 также может использовать SV-5 (смешанный пленочный материал ZrO2 TiO2) или другие смешанные пленочные материалы с высоким показателем преломления.
Соответствующим образом уменьшите скорость испарения (эталонная скорость Al2O3-2,5A/S; ZrO2-3A/S; MgF2-6A/S).
Реакционное покрытие с кислородным наполнением выполняется на всех материалах оксидной пленки, а скорость поступления газообразного кислорода контролируется в соответствии с различными пленочными материалами.
Поверхностная твердость внешней пленки:
Антибликовая пленка обычно использует MgF2 в качестве внешнего слоя. Поперечное сечение пленки представляет собой относительно рыхлую столбчатую структуру, а твердость поверхности невысокая, поэтому легко протирать дорогу.
Улучшить стратегию:
Если позволяет конструкция пленочной системы, добавьте слой SiO2 толщиной около 10 нм к внешнему слою, а гладкость поверхности диоксида кремния будет лучше, чем у фторида магния (но износостойкость и твердость диоксида кремния не так хороши, как у фторида магния). После нескольких минут ионной бомбардировки после покрытия эффект стойкости будет лучше. (Но поверхность станет толще)
После того, как линза покинет вакуумную камеру, поместите ее в сухое и чистое место, чтобы предотвратить быстрое впитывание влаги и уменьшить твердость поверхности.
Другой
Причинами плохой прочности пленки являются низкий вакуум (случается в машинах с ручным управлением), грязная вакуумная камера и недостаточный нагрев подложки.
Когда вспомогательный газ заполнен, материал мембраны также дегазирует, что снижает степень вакуума, уменьшает молекулярный свободный пробег, и мембранный слой не является прочным. Поэтому при заполнении вспомогательным газом следует учитывать дегазацию материала пленки, а материал пленки полностью предварительно расплавлен и полностью дегазирован перед нанесением покрытия, что также позволяет избежать чрезмерного снижения степени вакуума из-за дегазации пленки. материала во время испарения, тем самым влияя на прочность пленки.
Снять пленку
Хотя кинорелиз здесь тоже своего рода слабый фильм, он имеет некоторые отличия от предыдущего кинорелиза. Основные функции: точечный выпуск, выпуск края и частичный выпуск.
Основная причина в том, что в мембране есть грязь или загрязняющие вещества.
Способ улучшения: улучшить чистоту подложки.
испанский
португальский