Новости

  • Общие методы технологии PVD

    Общие методы технологии PVD

    Общие методы технологии PVD Дуговое ионное покрытие Катодно-дуговая технология используется для осаждения тонкопленочных материалов путем ионизации целевого материала в ионное состояние в условиях вакуума при низком напряжении и высоком токе. Материал имеет более высокую скорость ионизации и лучшие характеристики пленки. Китай Плазменная машина для нанесения покрытий Suppliers читать дальше

    23 Aug,2019 Новости отрасли
  • Общие методы технологии PVD

    Общие методы технологии PVD

    Общие методы технологии PVD ВЧ (радиочастотное) напыление Частота ВЧ-распыления составляет около 13,56 МГц. Ему не нужен горячий катод, и он может распыляться при более низком давлении и напряжении. ВЧ-распыление может осаждать Поставщики систем покрытия PVD в Китае не только металлические пленки, но и изолирующие диэлектрические пленки из различных материалов, поэтому он имеет широкий спектр применения. читать дальше

    16 Aug,2019 Новости отрасли
  • Общие методы технологии PVD

    Общие методы технологии PVD

    Напыление Напыление - это метод осаждения тонких пленок, связанный с газовым тлеющим разрядом. Существует множество методов распыления, таких как распыление постоянным током, ВЧ-распыление и реактивное распыление. Магнетронное распыление, промежуточная частота Поставщики систем покрытия PVD в Китае широко используются распыление, распыление постоянным током, ВЧ-распыление и ионно-лучевое распыление. Характеристика: Необходимый для разряда инертный газ (например, аргон) заполняетс... читать дальше

    10 Aug,2019 Новости отрасли
  • 10-Я ИНДИЙСКАЯ ВЫСТАВКА ПОСУДА ДЛЯ ДОМА ИЗ НЕРЖАВЕЮЩЕЙ СТАЛИ

    10-Я ИНДИЙСКАЯ ВЫСТАВКА ПОСУДА ДЛЯ ДОМА ИЗ НЕРЖАВЕЮЩЕЙ СТАЛИ

    20 ИЮЛЯ 2019 г. - 22 ИЮЛЯ 2019 г. ДОБРО ПОЖАЛОВАТЬ К НАМ: A02 КОНТАКТ: САРА 009193076908173 читать дальше

    19 Jul,2019 Новости отрасли
  • Как устранить неоднородность магнетронно-распыленных пленок?

    Как устранить неоднородность магнетронно-распыленных пленок?

    Во-первых, необходимо обеспечить однородность и направление магнитного поля для формирования относительно однородного пространственного магнитного поля. Во-вторых, должна быть обеспечена по возможности равномерность давления воздуха. При проектировании вакуумной камеры положение установки вакуумного насоса, способ Завод вакуумных лакировочных машин испарения необходимо учитывать вход технологического газа и расположение технологической трубы в камере. В-третьих, поскольку маг... читать дальше

    19 Jul,2019 Новости отрасли