Этапы очистки заготовки перед нанесением покрытия в вакуумной лакировальной машине

Для улучшения адгезии и гладкости гальванической пленки на поверхности подложки, а также компактности пленки, перед подвешиванием подложки в вакуумной лакировочной машине необходимо провести этап предварительной очистки для удаления масляные пятна, пятна, пыль, чтобы убедиться, что он в чистом состоянии, а затем покрытие.

1. Вакуумная очистка отопления

Заготовка нагревается при нормальном давлении или вакууме. Способствовать испарению летучих примесей на поверхности для достижения цели очистки. Очищающий эффект этого метода зависит от атмосферного давления заготовки, продолжительности времени пребывания в вакууме, температуры нагрева, типа загрязнений и материала заготовки. Принцип заключается в нагреве заготовки. Способствуют усиленной десорбции молекул воды и различных молекул углеводородов, адсорбированных на его поверхности. Степень усиления десорбции зависит от температуры. В условиях сверхвысокого вакуума для получения атомарно-чистых поверхностей температура нагрева должна быть выше 450 градусов. Метод очистки нагреванием особенно эффективен. Но иногда такой подход может иметь и побочные эффекты. В результате нагревания может случиться так, что некоторые углеводороды агрегируются в более крупные агломераты и одновременно распадаются на углеродистые остатки.

2. Очистка ультрафиолетовым облучением

Использует ультрафиолетовое излучение для разложения углеводородов на поверхности. Например, выдерживание на воздухе в течение 15 часов дает чистую стеклянную поверхность. Если должным образом предварительно очищенные поверхности помещаются в озонообразующий источник УФ-излучения. Чистую поверхность можно создать за считанные минуты (технологическая очистка). Это указывает на то, что присутствие озона увеличивает скорость очистки. Механизм очистки таков: при ультрафиолетовом облучении молекулы грязи возбуждаются и диссоциируют, а при образовании и существовании озона образуется высокоактивный атомарный кислород. Возбужденные молекулы грязи и свободные радикалы, образующиеся при диссоциации грязи, взаимодействуют с атомарным кислородом. Образуются более простые и летучие молекулы. Например, H2O3, CO2 и N2. Скорость реакции увеличивается с повышением температуры.

3. Очистка нагнетания

Этот метод очистки широко используется при очистке и дегазации систем высокого и сверхвысокого вакуума. Особенно используется в вакуумных лакировочных машинах. В качестве источника электронов используется горячая проволока или электрод. Применение отрицательного смещения к очищаемой поверхности может обеспечить десорбцию газа путем ионной бомбардировки и удаление некоторых углеводородов. Эффект очистки зависит от материала электрода, геометрии и его отношения к поверхности. То есть это зависит от количества ионов и энергии ионов на единицу площади поверхности. Таким образом, это зависит от доступной электрической мощности. Вакуумная камера заполнена инертным газом (обычно газообразным аргоном) при соответствующем парциальном давлении. Очистка может быть достигнута путем ионной бомбардировки тлеющим разрядом при низком напряжении между двумя подходящими электродами. в этом методе. Инертный газ ионизируется и бомбардирует внутреннюю стенку вакуумной камеры, другие конструктивные части в вакуумной камере и подложку, на которую наносится покрытие, что может сделать некоторые вакуумные системы свободными от высокотемпературной выпечки. Лучшие результаты очистки от некоторых углеводородов можно получить, если к заряженному газу добавить кислород. Поскольку кислород может окислять определенные углеводороды с образованием летучих газов, которые легко удаляются вакуумной системой. Основными компонентами примесей на поверхности высоковакуумных и сверхвысоковакуумных сосудов из нержавеющей стали являются углерод и углеводороды. В общем, углерод в нем не может улетучиваться сам по себе. После химической очистки необходимо ввести смешанный газ Ar или ArO2 для очистки тлеющим разрядом, чтобы удалить загрязнения на поверхности и газы, связанные с поверхностью вследствие химического воздействия. при очистке тлеющим разрядом. Важными параметрами являются тип приложенного напряжения (переменного или постоянного тока), величина разрядного напряжения, плотность тока, тип заряжаемого газа и давление. Продолжительность бомбардировки. Форма электродов, материал и расположение очищаемых частей и т. д.

4. Продувка газом

(1) Продувка азотом

Когда азот адсорбируется на поверхности материала, из-за малой энергии адсорбции время удерживания на поверхности чрезвычайно короткое. Даже если он адсорбируется на стенке устройства, его легко откачать. Использование этого свойства азота для промывки вакуумной системы может значительно сократить время откачки системы. Например, прежде чем вакуумная машина для нанесения покрытий будет помещена в атмосферу, сначала заполните вакуумную камеру сухим азотом, чтобы промыть ее, а затем заполните ее атмосферой, время откачки следующего цикла откачки может быть сокращено почти вдвое, потому что Энергия адсорбции азота намного меньше, чем у молекул водяного пара, после заполнения азотом в вакууме молекулы азота сначала адсорбируются стенкой вакуумной камеры. Поскольку место адсорбции фиксировано, оно сначала заполняется молекулами азота, а адсорбируется очень мало молекул воды, что сокращает время откачки. Если система загрязнена разбрызгиванием масла диффузионного насоса, для очистки загрязненной системы можно также использовать метод промывки азотом. Как правило, при запекании и нагреве системы промывка системы газообразным азотом может устранить загрязнение маслом.

(2) Продувка химически активным газом

Этот метод особенно подходит для внутренней промывки (удаления углеводородных загрязнений) больших установок для нанесения покрытий из нержавеющей стали со сверхвысоким вакуумом. Обычно для вакуумных камер и вакуумных компонентов некоторых крупных сверхвысоковакуумных систем с целью получения атомарно-чистых поверхностей стандартными методами устранения поверхностных загрязнений являются химическая очистка, обжиг в вакуумных печах, очистка тлеющим разрядом и оригинальные энергетические обжиговые вакуумные системы. и другие методы. Описанные выше методы очистки и дегазации обычно используются до и во время сборки вакуумной системы. После того, как вакуумная система установлена ​​(или после того, как система находится в эксплуатации), поскольку различные компоненты вакуумной системы закреплены, трудно дегазировать различные компоненты вакуумной системы. После того, как система (случайно) загрязнена (в основном большими атомными номерами) молекулами, такими как загрязнение углеводородами), обычно демонтируются и перерабатываются перед установкой. С помощью процесса с химически активным газом можно проводить онлайн-дегазацию на месте. Эффективно удаляйте загрязнения углеводородами в вакуумной камере из нержавеющей стали. Его механизм очистки: в системе указаны окисляющий газ (O2, N0) и восстановительный газ (H2, N H3) для проведения химической очистки поверхности металла для устранения загрязнения, чтобы получить атомно-чистый металл. поверхности. Скорость окисления/восстановления поверхности зависит от загрязнения и материала поверхности металла. Скорость поверхностной реакции регулируется путем регулирования давления и температуры реакционного газа. Для каждой подложки точные параметры определяются экспериментально. Эти параметры различны для разных кристаллографических ориентаций.

Основанная в 2007 году как предыдущее название Huahong Vacuum Technology, является профессиональной Китай Аксессуары для вакуума Поставщики а также Производители вакуумных аксессуаров , включая, помимо прочего, системы напыления, установки для нанесения оптических покрытий, периодические металлизаторы, системы физического осаждения из паровой фазы (PVD), оборудование для нанесения твердого и износостойкого вакуумного покрытия, устройства для нанесения покрытий на стекло, полиэтилен, поликарбонат, рулонные машины для нанесения покрытий на гибкие материалы. субстраты. Машины используются для широкого спектра применений, описанных ниже (но не ограничиваясь ими): автомобильные, декоративные, твердые покрытия, покрытия для инструментов и резки металлов, а также тонкопленочные покрытия для промышленных и лабораторных целей, включая университеты. Danko Vacuum Technology Company Ltd. расширить наши рыночные границы, предоставляя высококачественные, высокопроизводительные и оптовые цены на вакуумные аксессуары. Наша компания уделяет большое внимание послепродажному обслуживанию на внутреннем и международном рынках, предоставляя точные планы обработки деталей и профессиональные решения для удовлетворения потребностей клиентов.